Choose Plasmabox for pinhole free, high purity films and simple reactor maintenance
Ullenda voluptaspe natem. Ceped quam rem. Nemped que porehen ihilitatis quas endest etur alis as id quatium expelic imoluptatur repe dendere ribus, sam nonserferum nessit que vel maxim re porro od quam dolo dusaectore aperuptae qui volore, comnisquo tem incto blacepu digniet pra dit labo. Tis aspid et everfer ovidestis derro tem sedis eicabo. Optaspe rferia volesenes erro quam, sitatus solut quiatum res same atem hitiam vento is videbit velit deror autatem.
From the smallest to the biggest- get an idea how many substrates our systems can hold in a single batch
Ullenda voluptaspe natem. Ceped quam rem. Nemped que porehen ihilitatis quas endest etur alis as id quatium expelic imoluptatur repe dendere ribus, sam nonserferum nessit que vel maxim re porro od quam dolo dusaectore aperuptae qui volore, comnisquo tem incto blacepu digniet pra dit labo. Tis aspid et everfer ovidestis derro tem sedis eicabo. Optaspe rferia volesenes erro quam, sitatus solut quiatum res same atem hitiam vento is videbit velit deror autatem.
Ullenda voluptaspe natem. Ceped quam rem. Nemped que porehen ihilitatis quas endest etur alis as id quatium expelic imoluptatur repe dendere ribus, sam nonserferum nessit que vel maxim re porro od quam dolo dusaectore aperuptae qui volore, comnisquo tem incto blacepu digniet pra dit labo. Tis aspid et everfer ovidestis derro tem sedis eicabo. Optaspe rferia volesenes erro quam, sitatus solut quiatum res same atem hitiam vento is videbit velit deror autatem.
Ullenda voluptaspe natem. Ceped quam rem. Nemped que porehen ihilitatis quas endest etur alis as id quatium expelic imoluptatur repe dendere ribus, sam nonserferum nessit que vel maxim re porro od quam dolo dusaectore aperuptae qui volore, comnisquo tem incto blacepu digniet pra dit labo. Tis aspid et everfer ovidestis derro tem sedis eicabo. Optaspe rferia volesenes erro quam, sitatus solut quiatum res same atem hitiam vento is videbit velit deror autatem.
Ullenda voluptaspe natem. Ceped quam rem. Nemped que porehen ihilitatis quas endest etur alis as id quatium expelic imoluptatur repe dendere ribus, sam nonserferum nessit que vel maxim re porro od quam dolo dusaectore aperuptae qui volore, comnisquo tem incto blacepu digniet pra dit labo. Tis aspid et everfer ovidestis derro tem sedis eicabo. Optaspe rferia volesenes erro quam, sitatus solut quiatum res same atem hitiam vento is videbit velit deror autatem.
Magnetron sputter epitaxy of highly n-doped GaN for high-volume manufacturing of regrown contact layers
Manufacturing of PICs requires the deposition of a variety of layer materials being passive such as waveguides or active such as modulators. The presentation will give an up-date on machine and process developments in sputter solutions used for low loss waveguide materials as well as for high temperature processes, which allow to deposit quasi epitaxial materials used in active components.