晶圆级光学器件 (WLO)
微型光学器件，效率最大化
提供安全的晶圆处理和高产量 WLO 制造所必需的低颗粒水平
增强现实 (AR)
- 支持衍射或反射波导技术
- 金属、AR 和分光器涂层
传感与成像
- 面部/指纹等一系列 "生物识别传感 "技术的工艺解决方案
- 高性能近红外带通滤波器
光电集成电路 (PIC)
- 用于 EEL 的 AR 和 HR 工艺解决方案
- 光波导工艺，包括 ALN 和 SiN
高产率金属透镜
- 非晶硅和金属氧化物
- 在 200 或 300mm 上实现最低颗粒水平的解决方案
先进的工艺控制
Evatec 生产平台集成了一系列闭环工艺控制技术，以提高精度和产量。
- check 宽带光学监控可直接测量衬底，并在蒸发或溅射沉积过程中进行实时再优化，实时调整配方。
- check 等离子体发射监控可实现完美的化学计量控制和更高的溅射沉积率。
点击此处下载光学监测手册，了解更多有关原位再优化、混合模式监测（宽带和单色）的信息，并阅读其他案例研究，了解如何优化光学薄膜生产。
晶圆级光学元件
确保工艺的可重复性和低颗粒水平对于晶圆级光学元件应用的高产生产至关重要。全自动盒到盒生产技术消除了所有人工操作。
从汽车到航空电子和智能眼镜消费应用，我们支持一系列增强现实/混合现实（AR/MR）应用所需的薄膜沉积。
针对高折射率玻璃、内耦合或外耦合光栅上大入射角范围的抗反射涂层，Evatec 可为批量生产提供专用的全自动解决方案。
从AR/VR到生物识别传感和EEL，您可以在下面的LAYERS杂志上阅读更多有关WLO的典型应用以及Evatec解决方案如何为客户提供支持的信息。
生产设备
Evatec 用于晶圆级光学器件的设备组合
我们在一系列批量、集群或全自动在线平台上提供蒸发和溅射技术。
我们的专家随时准备根据您的工艺要求、产量和工厂集成需求，帮助您找到合适的平台。或者，点击图片链接，了解每个平台的更多信息。
BAK 系列
0.5 至 1.4 米直径的蒸发台，采用专有电子枪技术，提供增强型 PIAD 工艺和灵活性，可快速更换材料、基材尺寸、形状和曲率。
CLUSTERLINE® 200 BPM
用于动态溅射系统的集群式设备，可为微机电系统、无线、光电子和光电应用提供高吞吐量和高精度。通过自动晶圆盒到盒处理，可同时处理多个基片，效率极高。
CLUSTERLINE® 200
晶圆盒到盒 8 英寸集群式机台符合半导体行业晶圆传送和跟踪标准，配备批量模块溅射处理功能，适用于晶圆级光学等技术。
CLUSTERLINE® 300
晶圆盒对盒 12 英寸集群式机台，符合半导体行业晶圆传送和跟踪标准，配备用于晶圆级光学等技术的单工艺模块处理。
SOLARIS®
在线式平台系列，用于在单个基板上生产智能眼镜的 AR 涂层，或在消费应用的载体上进行小批量生产，实现最高产量。
在我们的《LAYERS》杂志上阅读更多有关 WLO 的信息
侧壁覆盖
了解为什么侧壁覆盖对于 Micro LED 应用中的薄膜工艺至关重要，以及 Evatec 的 CLUSTERLINE® 解决方案如何满足这些需求。
以全新的方式看世界
Evatec 介绍了不同的智能眼镜技术以及大规模市场应用所需的 200 或 300mm 高性价比薄膜镀膜解决方案。
智能手机如何识别我?
指纹识别和人脸识别可确保移动设备的安全。Evatec 的机台可在全球范围内支持这些应用。了解有关生物识别和光学镀膜的更多信息。