WLCSP、FOPLP、2.5D / 3Dデバイス集積などにおいて、接触抵抗と膜均一性を高精度にコントロール
Siプロセスにおける50年以上の量産ノウハウに基づく表面・裏面プロセス
表面コンタクト技術向けCuプロセスなどの新技術により業界の革新を支援
高付加価値ウェーハ向けの低パーティクル・高精度プロセス
ARを含む大量消費者向けアプリケーションの成長を支える300mmプロセス
CLUSTERLINE® 300は、高性能・高耐久性・高拡張性を実現するスイス設計のモジュラー型クラスター装置です。多品種・高歩留まり生産工場向けに設計され、構成可能なSPMと各種前後処理機能によりシングルウェーハ処理を実現します。
本アーキテクチャはPVD、PVE、高圧脱ガス(HPD)および冷却機能を単一の真空環境内に統合できます。モジュール設計により迅速なアップグレード、独立保守、長期的なコスト効率を実現します。
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大気フロントエンドモジュール(AFEM)
イオナイザー
先端パッケージ用途向けオプション大気バッチデガッサー
システム中央の真空搬送モジュール(VTM9E)は以下を実現します。
インターフェースモジュール処理ユニットは、SPM内の前処理または後処理向けに以下の機能を提供します。
フロントエンドCMOS・メモリ、パワーデバイス、先端パッケージング、MEMS、無線、オプトエレクトロニクスおよびフォトニクス向けに最適化されたエッチング・成膜技術を統合し、SPM構成は以下を実現します。
ホットチャック、超高温チャック、回転チャック、ESC、クランプ式、クランプレス式、リセス型、RFバイアスおよびガス伝導方式
温度管理:Arcticチャック
本システムは電源系機器を備え、各種ユーティリティ供給を必要とします。
コンパクトな大気フロントエンドモジュールは、ISOクラス1のクリーンなハンドリング環境を提供します。統合フィルタリングにより汚染のないウェーハ搬送を実現し、透明な側面アクセスポートおよびビューポートにより安全な監視と保守が可能です。最大3基のFOUP対応ロードポートを搭載でき、自動ウェーハ搬送はSEMI規格に完全準拠し、高量産環境の要求に対応します。手動搬送のほか、AGV、PGV、天井空間搬送システムにも対応します。自動基板マッピング、回転アライメント、アクティブセンタリングにより高精度なウェーハ位置決めを実現します。大気バッファーやウェーハ反転ユニットなどのオプションにより、裏面メタライゼーション工程にも効率的に対応できます。本モジュールは重量ウェーハ、透明ウェーハ、反射ウェーハ、反りウェーハなどさまざまな基板特性に対応し、最小100µm厚の薄ウェーハ処理をサポートします。
有機モールド材料やガス放出の多いパッシベーション層を有する基板向けに、Evatecの革新的な大気バッチデガッサーは、高スループットかつ安定した前処理工程を提供します。ポリマー硬化温度の範囲内で厳密に温度制御を行い、加熱乾燥パージガスを流すことで揮発性成分の除去を促進します。バッチ構成により標準および拡張カセット容量に対応し、自動ウェーハマッピング機能も備えています。
CLUSTERLINE® 300の中核となる真空搬送モジュールは、すべてのプロセスおよび処理ステーションを単一の高真空環境内で接続します。最大6基のプロセスモジュールポートをサポートし、SPMの柔軟な統合を可能にします。内蔵ヒーターにより温度を安定化し、最大4系統の超高純度ガス供給に対応します。Evatec製エンドエフェクタを備えた真空ロボットが全ステーションでオンザフライ位置補正を行いながらウェーハ搬送を実施します。アライメント、ウェーハ反転、最大12枚保持可能なバッファーステーションにも対応し、高量産と低メンテナンスを実現します。
搬送モジュールとプロセスチャンバーの間に配置されるインターフェースモジュールは、冷却、ランプ加熱による脱ガス、真空バッファリングなどの熱処理・真空調整機能を提供します。サイトグラスによる観察や、水冷機構・トラップによる温度および真空環境の安定化が可能です。
シングルプロセスモジュールは、CMOS、メモリ、パワーデバイス、先端パッケージング、MEMS、無線、オプトエレクトロニクス、フォトニクスなど幅広い半導体用途に対応します。8~12インチウェーハおよび薄ウェーハ処理に対応し、高真空環境下で高精度な圧力制御を実現します。PVD、ADS、ICPベースPVEソフトエッチなど多様なプロセスに対応します。
各種チャック設計により、多様な熱的・電気的要求へ対応します。静電チャック、クランプ式、クランプレス式、RFバイアス型などを用意し、Arctic ChuckやIce Domeによって-30℃までの冷却、および最大750℃までの高温処理に対応します。
本プラットフォームは、真空環境、プロセスチャンバー、温度制御ユニット、ガス供給インフラを運用するために必要な電源およびユーティリティ供給システムを統合しています。安定稼働、予防保守、および継続的な量産運用を支援します。
Evatecの新しいホットチャックおよびカソード技術により、CLUSTERLINE® 300上でのPVDベースのエピタキシャル成長が可能となり、GaN、BTO、ITOなど先端材料向けに高温均一性と低ダメージ成膜を実現します。
CLUSTERLINE® 300は、SDSおよびADS技術を組み合わせることで、優れたステップカバレッジ、低汚染、高生産性を実現し、将来的なALD・CVD統合への道を開きます。
Evatecは、スマートグラス向け各種技術と、量産市場向けに200mmおよび300mm基板で利用可能なコスト効率の高い薄膜コーティングソリューションを提供しています。