精密光学 

性能与经济性兼备的生产解决方案 

精度和可重复性是标准配置

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先进的过程控制

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技术创新

  • 纳米叠层 "等的新工艺方法
  • 缩短工艺时间,提高薄膜性能
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磁控溅射激光镀膜

  • 卓越的激光损伤阈值(LIDT)
  • 经济型大规模生产
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III-V 太阳能电池

  • 在沉积金属和电介质方面具有出色的工艺重复性
  • 自动化方面的新创新可降低 CoO

您值得信赖的精密光学器件合作伙伴

从激光光学元件到高端光伏或红外光学元件,Evatec 配备先进工艺控制技术的蒸发和溅射平台可为光学元件的批量生产提供最佳拥有成本。。

我们的生产平台可实现滤光片、抗反射镀膜、高反射镜或分光层的沉积。Evatec 工艺可显著提高光学器件的性能。

先进的工艺控制

Evatec 生产平台集成了一系列闭环工艺控制技术,以提高精度和产量。

  • check • 宽带光学监控可直接测量基片,并在蒸发或溅射沉积过程中进行实时重新优化,实时调整配方。
  • check • 等离子体发射监测可实现完美的化学计量控制和更高的溅射沉积率。
  • check • 蒸发和溅射过程中的光学高温测量,用于红外技术中可靠的温度控制。
  • check • 光学工具箱确保从薄膜设计到配方生成和镀膜执行的整个过程都能顺利整合。缩短工艺开发时间,提高产量。

单击此处了解有关实时再优化、混合模式监控(宽带和单色)的更多信息,并阅读说明如何优化光学薄膜生产的其他案例研究。

精密光学

Evatec 的先进过程控制技术(包括宽带光学监控)支持从紫外到可见光和红外的各种应用的蒸发或溅射过程。

50 多年来售出的 6000 多个 BAK 平台的跟踪记录证明了我们 BAK 蒸发平台的灵活性和可靠性,无论是传统蒸发还是离子辅助沉积。

CLUSTERLINE 200 BPM 平台提供晶圆盒到盒溅射解决方案,并采用定制阴极技术来提高精度和降低颗粒。从边缘发射激光器 (EELS) 到用于太空应用的太阳能电池镀膜,我们的工艺团队拥有 70 多年的专业技术和衬底处理经验,可支持精密光学镀膜应用。

生产机台

Evatec 用于精密光学仪器的机台组合

我们在一系列批量、集群或全自动在线平台上提供蒸发和溅射技术。

我们的专家随时准备根据您的工艺要求、产量和工厂集成需求,帮助您找到合适的平台。您也可以点击按钮,了解每个平台的更多信息。

BAK General

BAK 系列

0.5 至 1.4 米蒸发台,采用专有电子枪技术,提供增强型 PIAD 工艺和灵活性,可快速更换材料、基材尺寸、形状和曲率。

CLN 200 New

CLUSTERLINE® 200

12 英寸晶圆盒到盒式集群式设备符合半导体行业传输和跟踪标准,配备用于蚀刻、PVD、PECVD和PEALD的单片工艺模块。可实现精确的单片基板处理。

Evatec CLUSTERLINE 200BPM

CLUSTERLINE® 200 BPM

BPM 属于 CLUSTERLINE® 系列,是一款晶圆盒到盒式动态批量式溅射设备,可在 MEMS、无线通讯、光电和光学应用中提供高产量和高精度。选择 BPM,在大批量应用中可实现极佳均匀性和极低颗粒水平。

在《LAYERS》杂志上了解更多有关精密光学的信息

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III-V 太阳能电池制造领域的佼佼者

了解 Evatec 在 BAK 上的蒸发解决方案和最新的基片处理方案如何帮助客户实现成功制造 III-V 太阳能电池所必需的工艺重复性和高产量。

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体验不同的智能眼镜技术以及大规模市场应用所需的 200 毫米或 300 毫米高性价比薄膜镀膜解决方案。

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边缘发射激光器 - 新市场的制造挑战

了解边缘发射激光器 (EEL) 新兴应用所需的抗反射和高反射涂层的生产解决方案。

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