LAYERS 9 – 量子纳米叠层

量子纳米叠层（QNL）技术正成为下一代光学镀膜的突破性方法。Evatec展示了QNL如何使制造商能够以前所未有的精度"微调"薄膜特性，为高性能、成本效益高的大规模生产开辟了新途径。

使用CLUSTERLINE® 200 BPM平台，Evatec展示了如何通过调整材料比例和沉积参数来设计QNL，以实现广泛的折射率范围。这种可调性使得能够生产先进的减反射涂层、激光反射镜和多层结构，与传统薄膜设计相比，它们对工艺变化具有更强的稳健性。

文章重点介绍了基于QNL的涂层如何实现：

• 提高工艺稳定性，降低对层厚偏差的敏感性
• 通过中间折射率控制增强光学性能
• 更高的激光诱导损伤阈值，实现与离子束溅射（IBS）涂层相当或更优的性能水平
• 更低的拥有成本，得益于在成熟生产平台上进行的高通量磁控溅射

QNL技术在减反射涂层和高功率激光反射镜方面均已取得成功，对于希望在扩大高精度光学镀膜规模的同时又不牺牲性能的制造商来说，这代表了一项重大进步。

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