CLUSTERLINE® 600

650mmまでのパネル基板処理

 

薄型パネルを含め、最大650 × 650mmまで実績あるパネルプロセス技術

Evatec Web Icons CLN600 01

パネルレベルパッケージング

  • 脱ガス、エッチング、PVD技術の包括的なポートフォリオ 
  • 低接触抵抗(Rc)の信頼性の高い成膜 
Evatec Web Icons CLN600 02

先進IC基板

  • ガラスコアを含む新興技術に対応 
  • 基板反転機能を含むカスタム装置機能 
Evatec Web Icons HEXAGON 03

高性能コンピューティングおよびAI

  • 熱管理向け裏面メタライゼーションプロセス 
  • 大型パッケージ向け最高レベルの基板利用効率 

高性能と柔軟性を兼ね備えたプラットフォーム

Evatecのシングルパネル処理向け大面積クラスター装置は2017年に導入されました。最新バージョンでは最大650mm×650mmの基板に対応しています。FOPLPや先進IC基板製造を含む先端パッケージ用途向けに、脱ガス、エッチング、成膜機能を統合しています。 

CLUSTERLINE® 600が提供するメリット:

  • 柔軟なクラスターアーキテクチャ 
  • ガラス基板や高ガス放出基板の処理に対応 
  • 低パーティクルと優れた冷却性能 
  • UBM、RDL、TGVおよびメタライゼーション向け脱ガス・エッチング・成膜ノウハウ 

主なシステム構成 ― クイックガイド

円内の各セクションをクリックすると概要を確認でき、さらに詳細情報をページ下部でご覧いただけます。

AFEM

大気圧フロントエンドモジュール (AFEM)

FOUPまたは顧客カセットから基板をシステム内へ搬送し、戻すまでを行うフロントエンド統合モジュール。SECS/GEMにも完全対応。

  • 標準で5つのロードポート(LP)搭載可能(拡張により6ポート対応可能)
  • 前面配置のオペレーターインターフェース(HMI)、迅速なプロセス開発向けドロワーオプション付き
  • プロセス開発向けに簡易手動基板投入が可能なドロワー付き「テストポート」

AFEMには以下のような多くのオプションを追加可能:

  • パネル温度センサー
  • 静電センサー(ES)
  • 反り検出
  • 追加イオナイザー(“Top”、IMB)
  • AFEM用カメラ(4台、録画機能付き)
  • パネルIDリーダー(下側標準/上側オプション)
  • OHT E84対応

バッチデガッサー (ABD)

大気圧バッチ式脱ガス装置 (ABD)

Evatecのバッチ処理ノウハウにより、最高スループットで安定した高品質を実現。

  • Evatec独自の大気圧バッチ式脱ガス装置は、有機基板の高精度かつ再現性の高いアウトガス除去に最適。
  • CuやABFのような異なる吸熱・熱伝導率材料を含む基板処理に最適。

基板フリップ

大気圧フリッパー

  • 両面処理向けの高信頼インライン基板反転機構。

Keep Out Zone(KOZ)対応。

ITM, IMA, IMB

大気フロントエンドと中央真空搬送モジュール間で高速搬送を実現する2段トランスファモジュール(TM)技術。

  • IMA & IMB:高スループット向けコンパクト高速エアロック
  • 2段階排気・ベント方式。VTMがエアロックチャンバーへ直接接続されないため、高い再現性を実現
  • パネル待機用バッファ機能
  • 1つのVTMフランジで投入・排出処理を両対応

VTM

真空搬送モジュール(VTM) 

各シングルプロセスモジュール(SPM)へ基板を搬送する中央真空搬送モジュール。

  • 最大5つのSPM(エッチまたは成膜)接続可能

デュアルアームロボットによる高効率搬送

エッチング

低パーティクルで安定かつ高均一なエッチング技術。

  • PSS600容量結合型プラズマエッチ技術
  • イオン衝撃とプラズマ密度を調整可能なデュアル周波数
  • プロセス中にパネルを固定することでパーティクルを低減し、優れたチャック冷却を実現
  • 薄型・脆弱基板対応
  • 密着性最大化とRc最小化
  • 1系統チャックガスおよび最大4系統プロセスガス対応
  • 電源一体型による短配線・低損失・安定処理

PVD

低パーティクルで高均一な大型スパッタ成膜技術。

  • 4本並列カソードSSS600搭載
  • 長寿命ターゲットと高効率冷却
  • 可動マグネットによる均一性確保
  • パネル固定処理による低パーティクル化と優れた冷却性能
  • 1系統のバックガスおよび最大4系統のプロセスガス対応
  • 電源一体型による短配線・低損失・安定処理

基板チャック

プロセスに応じて最適化されたEvatecチャック技術。

  • 用途別に最適化されたチャックおよびチャックトップ
  • PVE向け高性能冷却“Arctic”オプション

Keep Out Zone(KOZ)対応設計

供給ユニット

メンテナンス性を重視した補機ユニット

  • ECRラック
    (電源供給アークフラッシュ、制御コンピュータ、および全モジュール向け電源分配システムを含む)
  • AFEMラック
    (大気ロボットコントローラーおよび全統合コンポーネント向け電源分配を含む)
  • 水・エア供給システム
  • PVE向け “Arctic” チラーオプション

大気フロントエンドモジュール(AFEM) 

大気フロントエンドモジュールは、FOUPまたは顧客専用カセットから大型基板をシステム内へ制御された状態で搬送します。統合された反り測定機能とSECS/GEM完全対応により、生産工程全体を通して信頼性の高い自動化を実現します。標準で最大5基のロードポートを搭載でき、拡張により6基目も追加可能です。オペレーターインターフェースは効率的なプロセス開発を目的として配置され、追加ロードポート設置時には移設も可能です。AFEMには温度センサー、静電センサー、高度な反り検出機能、イオナイザー、監視用カメラ、上面または下面からの柔軟なパネルID読取機能を装備できます。また、基板認証とトレーサビリティを向上させるマッピングおよびRFIDソリューションも提供します。これらの機能により、材料、厚み、機械特性の異なるパネルに対しても一貫した高品質ハンドリングを実現します。 

大気圧脱ガス装置 (ABD)

大気デガッサーは、真空処理前に有機材料および複合材料基板へ均一な前処理を提供します。バッチ処理により高スループットと厳密に制御された熱環境を両立し、特に銅とABFのように放射率が異なる材料を組み合わせたパネルに対して安定した脱ガス性能を提供します。この安定した脱ガス工程は、高い密着性と再現性の高い後工程のエッチング・成膜プロセスに大きく貢献します。 

大気圧フリッパー (AFLIP)

パネル両面への処理が必要な用途向けに、大気フリッパーは基板を安全かつ高精度に反転します。堅牢な設計により反転中も安定したハンドリングを実現し、定義されたキープアウトゾーンを維持することで、デリケートな表面への接触を防止します。先端パッケージング工程において、損傷のない両面処理を可能にします。 

インターフェーストランスファモジュール (ITM, IMA, IMB)

Evatecの特許取得済みインターフェーストランスファーモジュール(ITM)シリーズは、大気環境と真空システム間の効率的な搬送を実現します。IMAおよびIMB構成は、コンパクトかつ高速サイクルのエアロックを採用し、排気時間を最小限に抑えることでスループットを最大化します。二段階の排気・ベントシーケンスにより、中央真空搬送チャンバーを大気へ直接曝露することなく、高い再現性を持つ真空環境を維持します。統合バッファ機能により、パネルの一時待機を行いながらクラスター全体のサイクルタイムを最適化し、連携したプロセスシーケンスを支援します。 

真空トランスファモジュール (VTM)

真空搬送モジュールには、各真空プロセスモジュール間で基板を搬送する中央ロボットハンドリングシステムが搭載されています。最大5基のプロセスモジュールポートを統合可能で、生産プロセス要件に応じてエッチングおよびスパッタ技術を柔軟に組み込むことができます。 

シングルプロセスモジュール – 物理エッチング(PVE)

物理エッチングモジュールは容量結合型プラズマ技術を採用し、大型基板に対して均一かつ安定したエッチング性能を提供します。デュアル周波数制御により、プラズマ密度とイオン照射エネルギーを個別に最適化し、密着性および接触抵抗を精密に制御できます。エッチング中はパネルを静止状態で保持するため、パーティクル発生を抑制し、基板チャックによる最適な冷却性能を実現します。チャンバー設計および搬送機構は薄型・脆弱基板にも対応し、最大4系統のプロセスガスに対応する専用チャックガス供給も利用可能です。プラズマ電源はチャンバー近傍に配置されており、電気損失を低減するとともに、再現性の高い安定したプラズマ特性を確保します。 

シングルプロセスモジュール –物理気相成長法(PVD)

PVDモジュールは、長寿命かつ高効率冷却を実現する回転ターゲット付きの「4カソード・スパッタリングアーキテクチャ」を採用しています。可動式マグネットアセンブリにより、パネル全面にわたる膜厚均一性の微調整が可能です。エッチングモジュールと同様に、成膜中は基板を静止状態で保持するため、パーティクル発生を最小限に抑え、高性能なチャック冷却を実現します。本システムは1系統のチャックガスおよび最大4系統のプロセスガスに対応しています。統合プラズマ電源により配線長を短縮し、電気損失を低減するとともに高いプロセス安定性を実現します。本モジュールは先端パッケージングおよびIC基板製造向け成膜プロセスに対応し、大面積にわたり均一なコーティング品質を提供します。 

チャック

本プラットフォームは、プロセス、基板厚み、およびキープアウトゾーン(KOZ)の要件に応じたさまざまなチャック構成に対応しています。専用設計されたチャックにより、全モジュールで安定した温度管理と信頼性の高い機械的支持を実現します。特にPVEプロセス向けには、優れた冷却性能を提供する「Arctic」チャックを選択できます。また、用途に応じたチャックトップを選択することで、最適なクランプ性能、温度均一性、およびデリケートなパネル領域との適合性を確保できます。 

CLUSTERLINE® 600について、LAYERSマガジンでさらに詳しく

LAYERS8 Promo Square Semiap3

CLUSTERLINE® 600 – 次世代ICサブストレートにも最適

EvatecのCLUSTERLINE® 600プラットフォームに加えられた最新の機能強化により、先進IC基板向けの効率的なパネルレベル製造が可能となり、AIおよび高性能コンピューティング市場の拡大する要求に対応しています。 

PNL600 E Evatec

大型パネル上でチップレットの微細化を実現

DecaとEvatecの専門家は、M-Series™ファンアウト技術とAdaptive Patterningが600mmパネル上での量産をどのように実現するかを解説しています。これにより、信頼性向上、さらなる微細化、そして次世代チップレット統合への明確な道筋が提供されます。 

さらにお知りになりたいですか?

お近くのエバテック営業・技術チームまでお問い合わせください。

お問い合わせ