レーザー光学部品からハイエンドの太陽光発電や赤外線光学部品まで、高度なプロセス制御技術を備えたエバテックの蒸着およびスパッタプラットフォームは、光学部品の大量生産において最高のコストパフォーマンスを実現します。
エバテックの生産プラットフォームは、フィルター、反射防止膜、高反射ミラー、ビームスプリッターの成膜を可能にします。エバテックのプロセスは光学部品の性能を大幅に向上させます。
エバテックの生産プラットフォームは、精度と歩留まりを向上させるクローズドループプロセス制御技術を取り入れています。
in-situ再最適化、ハイブリッドモード監視(広帯域と単色)、および光学薄膜生産を最適化する方法を解説しています様々な事例につきましては、こちらをクリックしてください。
ブロードバンド光学モニタリングを含むエバテックのアドバンスト・プロセス・コントロール技術は、UVからVIS、IRまで幅広いアプリケーションの蒸着またはスパッタプロセスをサポートしています。
50年以上にわたり6000台以上のBAKプラットフォームを販売してきた実績が、従来の蒸着やイオンアシスト蒸着を問わず、当社のBAK蒸着プラットフォームの柔軟性と信頼性を証明しています。
CLUSTERLINE 200 BPMプラットフォームは、カセット・ツー・カセット・スパッタ・ソリューションを提供し、カスタム化されたカソード技術を使用することで、精度の向上とパーティクルの低減を実現しています。エッジ発光レーザー(EELS)から宇宙用太陽電池のコーティングまで、当社のプロセスチームは70年以上にわたるノウハウと基板ハンドリングを活用し、精密光学コーティングアプリケーションをサポートいたします。
エバテックでは、バッチ式、クラスター式、全自動インライン式など、様々な蒸着・スパッタリング技術を提供しています。
エバテックのエキスパートが、お客様のプロセス要件、スループット、製造統合のニーズに応じて、適切なプラットフォームを導入するお手伝いをいたします。ボタンをクリックして各プラットフォームの詳細をご覧ください。
0.5~2.0mのエバポレーターは、独自のe-gunテクノロジーによりPIADプロセスを強化し、材料、基板サイズ、形状、曲率の迅速な変更に柔軟に対応いたします。
エッチング、PVD、PECVD、PEALD用の単一プロセスモジュールを搭載した、カセットツーカセット方式の 8 インチ クラスターは、半導体業界のハンドリングおよびトラッキング基準に準拠しています。高精度な単一基板ハンドリングを実現します。
CLUSTERLINE®ファミリーの一員であるBPMは、カセットツーカセット方式のダイナミックバッチスパッタツールで、MEMS、ワイヤレス、オプトエレクトロニクス、フォトニクスなどのアプリケーションにおいて高いスループットと精度を実現します。大量生産アプリケーションにおいて、最高の均一性と最小のパーティクルレベルを実現するには、BPMをお選びください。
BAKを用いたEvatecの蒸着ソリューションと最新の基板ハンドリングオプションが、III-V族太陽電池の製造に不可欠なプロセス再現性と高い生産歩留まりを実現する上でどのように役立っているかをご覧ください。
様々なスマートグラス技術と、量産市場への応用に必要な200mmまたは300mmのコスト効率の高い薄膜コーティングソリューションを体験してください
端面発光レーザー(EEL)の新たな用途に必要な反射防止コーティングおよび高反射率コーティングの製造ソリューションについてご覧ください。