Evatec Market Segment Photonics

光学应用

拥有先进工艺控制(APC)的高精密光学镀膜全套解决方案

 

从汽车工业到智能手机,Evatec 蒸镀和溅射机台特有的先进工艺控制技术(APC)降低了精密光学镀膜大规模生产的成本。

无论是在3D成像和人脸识别还是增强现实领域,我们的生产机台可以用来镀滤光片,减反膜 (AR), 布拉格反射膜 (DBR) 及类金刚石膜 (DLC),抗指纹膜等高性能薄膜。从智能设备中的传感器、摄像头和触摸屏,到汽车抬头显示 (HUD) 的视屏,甚至手术室的照明优化,都有Evatec工艺提升器件性能的身影

Evatec 工艺还可应用在其他领域,比如医疗领域的高性能X光探测器中CsI/TlI闪烁晶体的生产。Evatec 蒸镀解决方案是用BAK1401 或BAV2000 大面积箱式腔体,提供客制化的蒸发源技术,能够实现数字X射线探测器中闪烁晶体生产所需的精确化学成分比和柱状薄膜结构。

 

应用于光学的EVATEC 机型 

Evatec 提供基于蒸镀和溅镀两种技术的批量式,集群式或全自动连续性生产平台。

我们的专家将根据您的工艺要求,产能需求和工厂集成要求帮助您找到合适的机台。 或者单击照片链接以了解有关每个机台的更多信息。

 

BAK系列

蒸镀距离从0.5至2米不等,配有专门的电子枪技术及离子辅助镀膜工艺,可以使材料在不同尺寸、形状、曲率基板灵活快速切换。

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MSP 1232

高精度大产能的批量溅射镀膜平台,每炉最大可产出有效面积2.2平米,基板尺寸最大可达560x380mm。

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CLUSTERLINE® 200

借鉴半导体工业的8英寸晶圆盒到晶圆盒 (Cassette-to-cassette) 上下片及传输技术和追踪标准,配备批量式溅镀工艺模组提供晶圆级的批量光学镀膜技术。

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SOLARIS®系列

超高产能连续型生产机台,应用于电极,铟锡氧化物半导体透明导电膜 (ITO),减反膜 (AR),抗指纹膜等领域,根据不同的客户应用可采用单片大尺寸或者多片组合夹具。

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先进工艺控制

Evatec 生产机台集成了一系列闭环工艺控制技术,提高了镀膜精确性和良率。

  • 宽光谱监控 — 直接测量基片的光谱,在蒸镀或溅镀过程中原位再优化和调整镀膜时间。
  • 电浆光谱分析监控 (PEM) — 在蒸镀或溅镀过程中,实现精确的化学成分比控制和更高的溅射镀率。

 

  • 红外测温与控制技术 — 在蒸镀或溅镀过程中控制温度。
  • Evatec 光学工具集 (Evatec Optics Tool Box) — 无缝集成薄膜设计、配方生成到镀膜执行等全过程,降低了工艺开发时间,提高产量。

 

点击此处下载光学镀膜的先进工艺技术APC手册。

 

 

从汽车工业到智能手机,Evatec 蒸镀和溅射机台特有的先进工艺控制技术(APC)降低了精密光学镀膜大规模生产的成本。

无论是在3D成像和人脸识别还是增强现实领域,我们的生产机台可以用来镀滤光片,减反膜 (AR), 布拉格反射膜 (DBR) 及类金刚石膜 (DLC),抗指纹膜等高性能薄膜。从智能设备中的传感器、摄像头和触摸屏,到汽车抬头显示 (HUD) 的视屏,甚至手术室的照明优化,都有Evatec工艺提升器件性能的身影

Evatec 工艺还可应用在其他领域,比如医疗领域的高性能X光探测器中CsI/TlI闪烁晶体的生产。Evatec 蒸镀解决方案是用BAK1401 或BAV2000 大面积箱式腔体,提供客制化的蒸发源技术,能够实现数字X射线探测器中闪烁晶体生产所需的精确化学成分比和柱状薄膜结构。

 

应用于光学的EVATEC 机型 

Evatec 提供基于蒸镀和溅镀两种技术的批量式,集群式或全自动连续性生产平台。

我们的专家将根据您的工艺要求,产能需求和工厂集成要求帮助您找到合适的机台。 或者单击照片链接以了解有关每个机台的更多信息。

 

先进工艺控制

Evatec 生产机台集成了一系列闭环工艺控制技术,提高了镀膜精确性和良率。

  • 宽光谱监控 — 直接测量基片的光谱,在蒸镀或溅镀过程中原位再优化和调整镀膜时间。
  • 电浆光谱分析监控 (PEM) — 在蒸镀或溅镀过程中,实现精确的化学成分比控制和更高的溅射镀率。

 

  • 红外测温与控制技术 — 在蒸镀或溅镀过程中控制温度。
  • Evatec 光学工具集 (Evatec Optics Tool Box) — 无缝集成薄膜设计、配方生成到镀膜执行等全过程,降低了工艺开发时间,提高产量。

 

点击此处下载光学镀膜的先进工艺技术APC手册。

 

 

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