Evatec MSP Front Side

MSP 1232

大规模精密光学薄膜生产

 

Evatec MSP机台适用于精密光学镀膜的批量生产。兼顾高产能和低成本,帮助客户快速获益。

以下是最新机台的性能和特点:

  • 最大基板面积560x380mm,每炉产能最大可达2平米
  • 优异的环境稳定性和量产重复性
  • 集成了离子源辅助镀膜,用于基板离子清洗,提高薄膜表面质量和薄膜在塑料基材上的附着力
  • 基板传输自动化和翻面 (可选)

MSP 为大规模生产中工艺和基板尺寸的快速切换提供了灵活的解决方案。

  • 最大基板面积560x380mm,良好的镀膜均匀
  • 每炉产能最大可达2.2平米
  • 最多可配置6个不同靶材的阴极
  • 配备离子源辅助镀膜,用于基板离子清洗和提高薄膜表面质量
  • 不同基板尺寸可快速切换
  • 不影响镀膜性能前提下的超高靶材利用率
  • 靶材易于更换,机台易于维护
  • 原位先进工艺控制技术(APC),基于"电浆光谱分析监控(PEM)"的高镀膜速率和基于"宽光谱监控"的优异光学性能。

 

 

MSP 1232是立式溅射系统。人工上下片,提供最大每炉2.2平米的镀膜产出(比如136mm*270mm 基片最多可一次性装载48片)。

 

从抬头显示 (HUD)到卫星通讯,新MSP 1232系统支持高精密光学镀膜,适用于平面或3D曲面的玻璃,塑料或金属等基材。

  • 电介质氧化物和氮化物薄膜 (Ta2O5,Nb2O5,SiO2,Al2O3,TiO2,SiN,SiON)
  • 透明导电膜 (ITO)
  • 金属 (Ta,Ti,Al,Cr,Cu)
  • 装饰膜 (CrN,CrON)
  • 半导体 (a-Si,Si)
  • 抗指纹抗划伤

 

 

了解更多典型应用案例请下载产品手册或访问公司网站。

 

 

Evatec MSP机台适用于精密光学镀膜的批量生产。兼顾高产能和低成本,帮助客户快速获益。

以下是最新机台的性能和特点:

  • 最大基板面积560x380mm,每炉产能最大可达2平米
  • 优异的环境稳定性和量产重复性
  • 集成了离子源辅助镀膜,用于基板离子清洗,提高薄膜表面质量和薄膜在塑料基材上的附着力
  • 基板传输自动化和翻面 (可选)

MSP 为大规模生产中工艺和基板尺寸的快速切换提供了灵活的解决方案。

  • 最大基板面积560x380mm,良好的镀膜均匀
  • 每炉产能最大可达2.2平米
  • 最多可配置6个不同靶材的阴极
  • 配备离子源辅助镀膜,用于基板离子清洗和提高薄膜表面质量
  • 不同基板尺寸可快速切换
  • 不影响镀膜性能前提下的超高靶材利用率
  • 靶材易于更换,机台易于维护
  • 原位先进工艺控制技术(APC),基于"电浆光谱分析监控(PEM)"的高镀膜速率和基于"宽光谱监控"的优异光学性能。

 

 

MSP 1232是立式溅射系统。人工上下片,提供最大每炉2.2平米的镀膜产出(比如136mm*270mm 基片最多可一次性装载48片)。

 

从抬头显示 (HUD)到卫星通讯,新MSP 1232系统支持高精密光学镀膜,适用于平面或3D曲面的玻璃,塑料或金属等基材。

  • 电介质氧化物和氮化物薄膜 (Ta2O5,Nb2O5,SiO2,Al2O3,TiO2,SiN,SiON)
  • 透明导电膜 (ITO)
  • 金属 (Ta,Ti,Al,Cr,Cu)
  • 装饰膜 (CrN,CrON)
  • 半导体 (a-Si,Si)
  • 抗指纹抗划伤

 

 

了解更多典型应用案例请下载产品手册或访问公司网站。